金屬蝕刻光罩作用

April 14,2025

金屬精密蝕刻的核心流程與半導體微影製程（photolithography）類似，皆需使用鹵化銀底片作為光罩（mask），以進行高精度的影像轉移。透過 UV 光曝光，圖形會被轉移到光阻層上；未經曝光區域在後續顯影步驟中被去除，形成蝕刻的開口。當不鏽鋼表面失去光阻保護時，便會在蝕刻液作用下被選擇性腐蝕，最終完成精確且可控的蝕刻結構。透過這樣的製程設計，我們能針對微細圖案、高密度開孔或複雜結構提供穩定且高再現性的解決方案，確保產品符合嚴苛的精度與品質要求。
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